


壓電納米定位臺在晶圓鍵合中實現(xiàn)晶圓納米級對準
隨著AI大模型、高性能計算的快速發(fā)展,HBM高帶寬內(nèi)存、高端AI芯片、Chiplet異構(gòu)集成成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心方向,摩爾定律的演進已從平面微縮轉(zhuǎn)向3D垂直集成。而晶圓鍵合,正是實現(xiàn)3D芯片、異質(zhì)材料集成、先進封裝的核心支柱工藝。在晶圓鍵合過程中,晶圓的高精度對準是決定工藝成敗、芯片性能、量產(chǎn)良率的防控線,先進鍵合工藝的對準精度要求正在向更高的精度邁進。哪怕僅有幾納米的對準偏差,都會導(dǎo)致芯片報廢、器件性能失效與可靠性降低。而實現(xiàn)納米級對準的核心,正是能幫助晶圓調(diào)整位姿的壓電納米定位臺。
一、晶圓鍵合技術(shù)/Wafer Bonding
(一)晶圓鍵合(Wafer Bonding)是半導(dǎo)體前道制造與先進封裝的核心工藝,是一種將兩片或多片晶圓(如硅、SiC、GaN等材料)在分子或原子尺度實現(xiàn)一體化結(jié)合的技術(shù)。晶圓鍵合的主要目的是突破傳統(tǒng)芯片制造在二維平面上的物理極限,實現(xiàn)更高性能、更低功耗和更多功能的集成,例如:
1、3D集成:垂直堆疊不同功能的芯片,顯著提升集成度與數(shù)據(jù)傳輸速度;
2異質(zhì)集成:將不同材料的晶圓(如GaN、Si等)無縫結(jié)合在一起,實現(xiàn)優(yōu)勢互補
3、先進封裝:制備SOI晶圓、MEMS真空腔體等特殊結(jié)構(gòu),通過晶圓級封裝大幅提升量產(chǎn)良率,降低制造成本。
(二)典型的晶圓鍵合過程包含以下關(guān)鍵步驟:
1、表面預(yù)處理:通過化學(xué)清洗、等離子體活化等工藝,使晶圓表面原子級平整,去除雜質(zhì)與缺陷;
2、精確對準:將兩片晶圓上的對準標記精確重合,以確保后續(xù)電氣連接的正確性;
3、預(yù)鍵合:將兩片對準的晶圓貼合在一起,利用分子間作用力使晶圓初步貼合;
4、退火強化:通過高溫加熱使原子間形成牢固的共價鍵,從而將兩片晶圓永久性地結(jié)合在一起;
5、質(zhì)量檢測:檢測鍵合強度、對準精度與可靠性。
(三)晶圓鍵合的核心技術(shù)指標:對準精度
在晶圓鍵合的諸多技術(shù)指標中,對準精度是決定最終芯片功能與性能的最關(guān)鍵參數(shù)之一。
對準精度直接關(guān)系到:電氣互聯(lián)的成效、芯片性能的優(yōu)劣、生產(chǎn)良率與成本。

二、壓電納米定位臺/晶圓對準的核心執(zhí)行單元
晶圓精對準的本質(zhì),是對晶圓的位置進行納米級的精確調(diào)整。壓電納米定位臺是以壓電陶瓷作為驅(qū)動源,結(jié)合柔性鉸鏈機構(gòu)實現(xiàn)多軸精密運動的壓電平臺。其核心優(yōu)勢在于體積小、無摩擦、響應(yīng)速度快,配置高精度傳感器后,可實現(xiàn)納米級分辨率及定位精度,且具有*高的可靠性。
在晶圓鍵合過程中,壓電納米定位臺通過多自由度微動,補償誤差,將晶圓調(diào)整到理想的對準位置。這一過程需要同時滿足高精度、高穩(wěn)定性、快響應(yīng)等要求,壓電納米定位臺憑借驅(qū)動與結(jié)構(gòu)特性,是晶圓鍵合對準調(diào)姿的核心標配部件。
芯明天壓電納米定位臺的核心技術(shù)優(yōu)勢
(1)納米級定位精度:壓電納米定位臺通過逆壓電效應(yīng)實現(xiàn)電信號到位移的直接轉(zhuǎn)換,分辨率和定位精度可達納米級,滿足先進晶圓鍵合對亞微米乃至納米級對準的要求。
(2)毫秒級快速響應(yīng):壓電納米定位臺的響應(yīng)時間通常在毫秒級,可實時補償位移偏差。在晶圓鍵合過程中,壓電納米定位臺能夠快速完成晶圓位置的微調(diào),避免因調(diào)整滯后導(dǎo)致的對準失敗。
(3)無摩擦:壓電納米定位臺采用無摩擦柔性鉸鏈機構(gòu)設(shè)計,具有零間隙傳動、高導(dǎo)向精度、高分辨率、長期穩(wěn)定等優(yōu)勢。
(4)多軸協(xié)同運動能力:晶圓對準需要同時調(diào)整多個自由度,包括多軸直線及旋轉(zhuǎn),而壓電納米定位臺可實現(xiàn)三維甚至六自由度的精密運動。
(5)高穩(wěn)定性與可靠性:壓電納米定位臺的高剛性、零間隙的設(shè)計保證了系統(tǒng)在操作中的穩(wěn)定性和重復(fù)性,是承載晶圓的可靠平臺。
產(chǎn)品推薦
芯明天H30系列壓電納米定位臺
芯明天H30系列壓電納米定位臺是具有中心通孔的、XY直線及θz軸旋轉(zhuǎn)運動的三維壓電偏擺臺,采用無摩擦柔性鉸鏈結(jié)構(gòu)設(shè)計,響應(yīng)速度快、閉環(huán)定位精度高,可滿足晶圓對準過程中的調(diào)整需求。

技術(shù)參數(shù)
| 型號 | H30.XY100R2S/K |
| 運動自由度 | X、Y、θz |
| 驅(qū)動控制 | 4路驅(qū)動,3路傳感/4路驅(qū)動 |
| 標稱直線行程范圍(0~120V) | ±56/軸 |
| 直線行程范圍(0~150V) | ±70/軸 |
| 標稱旋轉(zhuǎn)角度(0~120V) | 1.6(≈330秒) |
| 旋轉(zhuǎn)角度(0~150V) | 2(≈413秒) |
| 傳感器類型 | SGS/- |
| XY向分辨率 | 6nm/2nm |
| θz向分辨率 | 0.3μrad(≈0.06秒)/0.1μrad(≈0.02秒) |
| XY向重復(fù)定位精度 | X0.057%F.S.、Y0.018%F.S./- |
| θz向重復(fù)定位精度 | 0.03%F.S./- |
| 空載諧振頻率 | XY450Hz、θz330Hz |
| 帶載諧振頻率@6kg | XY110Hz、θz85Hz |
| 靜電容量 | XY15μF、θz28.8μF |
| 階躍時間 | 150ms@6kg/5ms |
| 承載能力 | 6kg |
| 材質(zhì) | 鋁合金 |
| 重量(不含線) | 2.3kg |
晶圓鍵合對位納米臺

技術(shù)參數(shù)
運動自由度:X、Y、θz
行程:XY>100μm/軸、θz>0.2mrad
納米級分辨率
承載能力:>10kg
可選真空版本
產(chǎn)品可定制
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